Diffusion und Lokalisation positiver Myonen in einkristallinem Kupfer, Vanadium, Niobium und Tantal

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Schilling, Hugo (Autor)
Médium: Kniha
Jazyk:němčina
Vydáno: Zürich : b. t., 1980
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
Obálka
Stav Dílčí knihovna Popis Umístění LCC signatura Stará signatura
Sklad, do studovny
Fond NTK Sklad K 14821