Chemical vapor deposition (CVD) : methods and technologies

"Chemical vapor deposition (CVD) refers to a vacuum deposition method used to produce high quality, high-performance, solid materials in a variety of manufacturing industries. Chapter One provides a critical review of published experimental data for thin films of silicon nitride deposited by th...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Další autoři:	Karlsson, Levi (Editor)
Médium:	Kniha
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	New York : Nova Science Publishers, 2021
Edice:	Chemical engineering methods and technology
Žánr/forma:	kolektivní monografie
ISBN:	978-1-53619-949-9 978-1-53619-990-1
Témata:	chemická technologie chemické procesy tenké vrstvy grafen materiály povrchové úpravy materiálů chemická depozice z plynné fáze (CVD) chemical vapor deposition (CVD)
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!