RF hollow cathode in plasma-chemical reactor : a summary of thesis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Touš, Jan, 1969- (Autor práce)
Další autoři: Šícha, Miloš, 1930-2012 (Vedoucí práce) 
Korporace: Univerzita Karlova. Fyzikální ústav  
Médium: Rukopis
Jazyk:angličtina
Vydáno: 2002
Žánr/forma:autoreferáty
Témata:
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
Obálka
Stav Dílčí knihovna Popis Umístění LCC signatura Stará signatura
Sklad, do studovny
Fond NTK Sklad K 59809/2